--- اغاز تحقیقات لیتوگرافی 16 NM توسط Tsmc ---

[TERRORIST]

شرکت Tsmc و Mentor Graphics ، با همکاری یکدیگر اقدام به تحقیقات گسترده ای برای ساخت لیتوگرافی 16 NM کرده اند، دو شرکت Tsmc و Mentor Graphics هردو در ابتدای راه برای توسعه و تحقیقات لیتوگرافی 16 NM قرار دارند، لیتوگرافی References 16NM شامل قابلیتهای جدید میباشد که شرکت Tsmc قرار است برای طراحی لیتوگرافی 16 NM خود بگنجاید، البته فرایند ساخت 16 NM توسط Tsmc و Mentor Graphics در ابتدای راه قرار دارد، فعلا ورژن 0.5 برای ازمایشهای اولیه منتشر شده است که طراحی شده برای DRM یا Rule Manual و همچنین دارای Spice 16 Nm برای کسب گواهینامه ای FinFET ناگفته نماند بزودی ورژن 1.0 هم برای تست ارائه خواهد شد ، شرکت Mentor Graphics همچنین گفته است سخت فعالیت خود را برای افزودن قابلیتهای جدید و همچنین ساختن یک مهندسی ساخت 16 NM به کار برده است ، اقای Suk Lee مدیر ارشد شرکت Mentor Graphics گفته اند همکاری ما با شرکت Tsmc بسیار خوب است ، طراحی و زیر ساختهای لیتوگرافی 16 NM نیز بین دو شرکت یعنی Mentor Graphics و Tsmc تقسیم شده است، و همچنین اقای Suk Lee گفتند حتی توبخش بازاریابی نیز دو شرکت تقسیم فعالیت کرده اند، ساخت لیتوگرافی 16 NM دارای ویژگی های : شامل : پایداری در طراحی - Multi Pattering - Low Power Design - Lithography Checking و طراحی برای تست Node ها. تکنولوژی 16NM و ترانزیستورهای FinFET به طور خاص و دقیق در فرایند ساخت که نیاز به دقت بیشتر برای Device ها و بهم وصل کردن استخراج Parasitic. روش های خاصی که توسط طراحی FinFET پشتیبانی میشوند شامل : الگوهای تراکم که برنامه ریزی اگاهانه شده است پرکردن یا Metal برای کنترل Density، درج خازنهای MIM برای بهبود افت IR پشتیبانی از جستجو لایه ها برای مقاومت بیشتر بهینه سازی برای خروجی بهتر نتایج ساخت،


شرکت های UMC و IBM در طی همکاری بایکدیگر قرار است اقدام به توسعه و ساخت لیتوگرافی 10 NM کنند، البته گفته شده است اقدام برای ساخت Fab Process برای بخش موبایل و ارتباطاتی میباشد .